Lasertec Corporation kondigt de introductie aan van het ACTIS A300-serie Actinic EUV Patterned Mask Inspection System voor High-NA. Het ACTIS A150 Actinic EUV Patterned Mask Inspection System van Lasertec heeft de toepassing van EUV-lithografie bij massaproductie vergemakkelijkt. Het staat bekend om zijn uitstekende inspectieprestaties in de industrie.

De onlangs uitgebrachte ACTIS A300 is een model van de volgende generatie dat voldoet aan de vereisten van fabricageprocessen die gebruik maken van EUV-lithografie met een hoge NA-waarde om de verdere miniaturisatie van apparaatgeometrieën mogelijk te maken. De A300-serie maakt gebruik van nieuw ontworpen optiek en de zeer heldere lichtbron URASHIMA . De detectieprestaties van defecten zijn aanzienlijk verbeterd ten opzichte van de A150-serie.

De anamorfe optiek die gebruikt wordt in hoog-NA-lithografie heeft verschillende vergrotingen van projectie in de X- en Y-richting. Inspectie van EUV-maskers voor hoog-NA-lithografie vereist daarom verschillende resolutieniveaus in de twee richtingen. De A300-serie kan ook gebruikt worden om EUV-maskers voor de huidige NA-lithografie en EUV-maskers voor hoog-NA-lithografie te inspecteren.

Lasertec is toegewijd aan het ondersteunen van de behoeften van toonaangevende halfgeleiderfabrikanten, het ontwikkelen van unieke oplossingen en het faciliteren van kwaliteits- en productiviteitsverbetering, om zo bij te dragen aan de vooruitgang van de industrie. Kenmerken: Inspectie van EUV-maskers voor hoog-NA-lithografie. Inspectie van EUV maskers voor de huidige NA lithografie.

Inspectie met hoge productiviteit met zeer efficiënte optiek en lichtbron met hoge helderheid URASHIMA. Toepassingen: Inspectie van kwaliteitsborging tijdens productieprocessen van EUV-maskers. Inkomende EUV-maskerinspectie en periodieke kwaliteitsborgingsinspectie bij waferfabs.