Advanced Energy Industries, Inc. heeft de volgende generatie stabiele en herhaalbare RF-precisievermogensystemen gelanceerd waarmee klanten hun verwerkingscapaciteit en opbrengst kunnen maximaliseren bij de fabricage van de volgende generatie halfgeleiders. De eVerestaa¢ RF stroomgenerator is ontworpen om de nauwkeurige plasmacontrole te leveren die vereist is voor Angstrom Era ets- en depositieprocessen en maakt in hoge mate configureerbare, multi-level stroompulsen mogelijk die geïntegreerd kunnen worden in bestaande plasmavoedingssystemen en deze kunnen verbeteren. Het platform biedt een uitgangsvermogen van 3 tot 10 kW en frequenties van 1 tot 60 MHz, en levert een brede, zeer nauwkeurige pulsfrequentie tot 100 kHz. Bovendien kunnen fabrikanten geavanceerde, herhaalbare processen ontwikkelen voor sub-2 nm depositie- en etsprofielen dankzij de snelle setpointrespons, gecontroleerde overshoot tussen overgangstoestanden en toegang tot een geavanceerd IoT data-ecosysteem.

eVerest is een compleet RF power delivery systeem met meerdere opties voor impedantie matching oplossingen en intelligente synchronisatie met andere Advanced Energy innovaties zoals de eVoSaa¢ bias oplossing, die instantane of door de gebruiker gedefinieerde overgangstiming mogelijk maakt om de ets- en depositiekinetiek te optimaliseren. eVerestacos high-speed RF output respons is minder dan 200 µs, met pulse-state rise/fall tijden tot minder dan 2 µs. Dynamische regeling van pulseren op meerdere niveaus opent nieuwe mogelijkheden voor energieregimes en -distributies, terwijl een programmeerbare overshoot zorgt voor een betrouwbare ontsteking en de mogelijkheid om plasma te herstellen in processen met langere pulsuitschakelingen. Wanneer ze geïntegreerd zijn met het PowerInsight by Advanced Energyaa¢ IoT data ecosysteem, geven eVerest-gebaseerde oplossingen operators toegang tot embedded data met hoge resolutie en hoge bandbreedte of data op systeemniveau.

Deze gegevens bieden bruikbare inzichten die een snellere, nauwkeurigere proceskarakterisering en probleemoplossing ondersteunen. Bovendien vermindert het de uitvaltijd doordat er geen toegang tot de plasmakamer meer nodig is voor de installatie van een oscilloscoop.