Intel zei donderdag dat het het eerste bedrijf was dat een van de nieuwe "High NA EUV" lithografiegereedschappen van het Nederlandse technologieconcern ASML monteerde, een belangrijk onderdeel van het streven van de Amerikaanse chipmaker om zijn rivalen te overtreffen.

Intel was het eerste bedrijf dat een van de 350 miljoen euro (373 miljoen dollar) kostende machines van ASML, de topleverancier van chipapparatuur, kocht. Verwacht wordt dat de machines zullen leiden tot nieuwe generaties kleinere, snellere chips, hoewel er financiële en technische risico's aan verbonden zijn.

"We zijn akkoord gegaan met de prijs toen we ons committeerden aan de tools en we zouden dat niet hebben gedaan als we er niet van overtuigd waren dat er kosteneffectieve toepassingen voor waren," zei Intel's directeur lithografie Mark Phillips tijdens een briefing met journalisten.

ASML, het grootste technologiebedrijf van Europa, domineert de markt voor lithografiesystemen, machines die lichtstralen gebruiken om de circuits van chips te maken.

Lithografie is een van de vele technologieën die chipmakers gebruiken om chips te verbeteren, maar het is een beperkende factor in hoe klein de functies op een chip kunnen zijn - kleiner betekent sneller en energiezuiniger.

Er wordt verwacht dat de High NA tools zullen helpen om chipontwerpen tot tweederde te verkleinen, maar chipmakers moeten dat voordeel afwegen tegen de hogere kosten en of oudere technologie misschien betrouwbaarder en goed genoeg is.

INTELS FOUT

Intels vastberadenheid om als eerste High NA te implementeren is niet toevallig.

Intel hielp mee aan de ontwikkeling van de EUV-technologie, genoemd naar de "extreem ultraviolette" lichtgolflengtes die worden gebruikt. Maar het begon het eerste EUV-product van ASML later te gebruiken dan de Taiwanese rivaal TSMC, waarvan CEO Pat Gelsinger toegaf dat het een grote fout was.

In plaats daarvan richtte Intel zich op technieken die bekend staan als "multi-patterning" - in wezen het doorlopen van meer stappen met lithografiemachines met een lagere resolutie om een gelijkwaardig effect te bereiken.

"Toen kwamen we in de problemen," zei Phillips.

Hoewel de oudere DUV-gereedschappen goedkoper waren, werd complexe multi-patterning te tijdrovend en leidde het tot te veel defecte chips, waardoor Intels commerciële vooruitgang werd vertraagd.

Het Amerikaanse bedrijf heeft nu EUV van de eerste generatie gebruikt voor de meest cruciale onderdelen van zijn beste chips, en Phillips zei te verwachten dat de overgang naar High NA EUV soepeler zal verlopen.

"Nu we EUV hebben, kijken we vooruit, maar we willen niet in hetzelfde schuitje komen waarin we (ASML's eerste generatie EUV machines) te ver moeten gaan," zei hij.

Phillips zei dat de machine op de campus in Hillsboro, Oregon, later dit jaar "volledig operationeel" zou zijn.

Intel is van plan om de machine, die zo groot is als een dubbeldekkerbus, te gebruiken bij de ontwikkeling van zijn 14A generatie chips in 2025, met vroege productie verwacht in 2026 en volledige commerciële productie in 2027.

ASML zei deze week naast de winst dat het begonnen was met het verschepen van een tweede High NA systeem naar een onbekende klant, waarschijnlijk TSMC of het Zuid-Koreaanse Samsung.

Het verschepen en installeren van de enorme gereedschappen kan tot zes maanden duren, waardoor Intel een voorsprong heeft.

($1 = 0,9381 euro) (Verslaggeving door Toby Sterling; Bewerking door Mark Potter)