ASM International N.V. heeft het SONORA® verticaal ovensysteem met dubbele reactorkamers voor 300mm wafers geïntroduceerd. De dubbele bootreactoren van het systeem produceren de hoogste beschikbare doorvoer in zijn klasse, waardoor de reactorbenutting tot bijna 100% wordt opgevoerd, terwijl de laagste capex gegarandeerd is. De nieuwe SONORA® is volledig compatibel met de originele A412™, zodat bestaande procesrecepten gemakkelijk kunnen worden overgezet, wat de systeemkwalificatie en het opvoeren versnelt.

Er zijn al systemen geleverd aan verschillende klanten over de hele wereld, waaronder leiders op het gebied van geavanceerde logica en de productie van power devices. ASM's voorganger A412™ verticaal ovensysteem heeft een bewezen staat van dienst van meer dan 1.000 aan klanten over de hele wereld verscheepte reactoren en meer dan 22 jaar maturiteit in de halfgeleiderfabricage. De nieuwe SONORA® heeft een nieuwe systeemarchitectuur die zowel de productiviteit van het vloeroppervlak als de onderhoudsoppervlakte maximaliseert.

Zijn speciale procesmodules hebben afzonderlijk gecontroleerde miniomgevingen van hoge zuiverheid. Het innovatieve gasinjectiesysteem van het bedrijf voor lagedrukverwerking zorgt voor de beste uniformiteit van afgezette films tussen de afzonderlijke wafers bij grotere ladingsgroottes. Deze grotere proces wafer load sizes, gecombineerd met het vernieuwde besturingssysteem, nieuwe robots, snellere wafer cooldown, snellere boot exchange modules genereren tot 30% meer productiviteit, vergeleken met zijn voorganger.

De hogere productiviteit resulteert ook in een lager energie- en chemicaliënverbruik per wafer. Er is speciale aandacht besteed aan het ontwerp voor de onderhoudsvriendelijkheid, wat leidt tot een ruime toegang voor alle onderhoudswerkzaamheden. Het nieuwe systeem is verder gemoderniseerd met een intuïtieve grafische gebruikersinterface, voorspellend onderhoud door geavanceerde controlediagnostiek, en plug & play installatie.

Klanten kunnen erop rekenen dat de SONORA een grotere betrouwbaarheid en een beter gebruiksgemak biedt, met een productie die een betere herhaalbaarheid, productiviteit en tijdsbenutting bereikt. Net als zijn voorganger biedt de SONORA een uitgebreide portefeuille van procestoepassingen, waaronder lagedruk chemische dampdepositieprocessen zoals gedopeerd silicium en siliciumnitride films, diffusieprocessen zoals natte oxidatie en gloeiprocessen, en een toonaangevende portefeuille van atomaire laagdepositie materialen.